霍尔离子源应用于光学镀膜机加装, 实现预清洁 PC, 辅助镀膜 IBAD
光学镀膜 optics coating, 在现代生产被广泛应用, 例如玻璃镀膜, 镜片镀膜, 显微镜镜片镀膜, 装饰灯罩镀膜都是必不可少的生产工艺. 蒸发镀膜作为一种常见的制程, 比较容易出现膜层不均匀, 或是产品膜层脱落的现象, 使用美国 KRI考夫曼离子源可以有效解决此类问题, 因此美国 KRI 考夫曼霍尔型离子源广泛加装在各类蒸发镀膜机中
离子源辅助镀膜客户案例一: 厦门某光学镀膜企业, 该企业使用日本 Shincron 真空镀膜机, 镀膜腔体约 2 m3 , 镀膜机加装霍尔离子源 EH 4200 起到预清洁 PC及辅助镀膜 IBAD 的作用.
离子源辅助镀膜具体操作, 霍尔离子源预清洁 PC +辅助镀膜 IBAD : 由于膜层表面很光滑,在镀膜时会产生膜层脱落现象, 预清洁就是将膜层表面用大的离子如 Ar 打击表面, 使得制程物能有效的吸附在表面上. 加装KRI霍尔离子源起到预清洁作用, 在预清洁后开启离子源辅助镀膜 IBAD, 膜层厚度均匀性及附着牢固度都明显提高。
工作示意图如下, KRI离子源覆盖面
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使用专业测膜记号笔, 可以明显看出加装 KRI 离子源前后有很大的不同
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
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